I bersagli per sputtering in titanio sono realizzati in metallo titanio e vengono utilizzati nei processi di rivestimento per sputtering.
I materiali target in titanio sono comunemente utilizzati nei rivestimenti di strumenti hardware, rivestimenti decorativi, rivestimenti di componenti semiconduttori e rivestimenti di display piatti. Esistono due metodi principali per la produzione di target per sputtering in titanio: metodo di fusione e metodo di fusione.
Fusione:Riscaldamento del metallo ad alta temperatura finché non diventa liquido. Quindi versarlo nello stampo e raffreddarlo per formare un materiale target solidificato.
Cast:Posiziona il metallo in una camera a vuoto e bombardalo con particelle ad alta energia. Ciò farà evaporare il metallo e, quando si raffredderà, si condenserà sulla superficie target.
È uno dei materiali principali per la preparazione dei circuiti integrati e la sua purezza deve solitamente essere superiore al 99,99%. AEM fornisce target in lega di titanio, come target sputtering in tungsteno e titanio (W/Ti 90/10 in peso%), che sono materiali importanti nei settori dei semiconduttori e dell'energia solare. La densità degli obiettivi di sputtering W/Ti può raggiungere oltre 14,24 g/cm3 e la purezza può raggiungere il 99,995%.
Caratteristiche
1. Alta pressione:I materiali target dello sputtering in titanio hanno un'alta densità, un'elevata resistenza al calore e un'alta pressione, che possono mantenere le loro prestazioni in ambienti complessi.
2. Stabilità chimica:I materiali target in titanio hanno una buona stabilità chimica e una lunga durata.
3. Costo elevato:I materiali target in titanio hanno costi elevati, ma grazie alle loro eccellenti prestazioni sono ampiamente utilizzati nei settori high-tech.
Campi di applicazione
1. Campo dei semiconduttori:Il materiale target dello sputtering di titanio è una delle materie prime importanti nel processo di produzione di chip semiconduttori ed è un materiale chiave per la realizzazione di componenti come transistor e circuiti.
2. Settore industriale:I materiali target in titanio possono essere utilizzati per produrre rivestimenti di fascia alta, materiali anticorrosivi, ecc. e sono ampiamente utilizzati in campi come quello automobilistico e manifatturiero.
3. Settore medico:I materiali target in titanio hanno caratteristiche quali biocompatibilità e biodegradabilità e possono essere utilizzati per realizzare dispositivi medici come articolazioni artificiali e impianti dentali.
In sintesi, il target dello sputtering in titanio è un materiale importante ampiamente utilizzato nei campi dei semiconduttori, industriale e medico. Grazie alle sue eccellenti prestazioni e ai costi elevati, esiste ancora un grande potenziale di sviluppo in futuro.
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